⚙️ 1️⃣ 스퍼터링(Sputtering)이란?

‘Sputter(스퍼터)’는 **“때려서 튀게 한다”**는 뜻이에요.
즉, 스퍼터링은 기체 이온으로 타깃(Target, 코팅 재료)을 때려서 그 원자를 튀겨내고,
그 원자가 기판 위에 달라붙어 얇은 막을 만드는 과정입니다.

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🧪 2️⃣ 기본 원리

1. 진공 상태에서 아르곤(Ar) 같은 가스를 주입
2. 전압을 걸어 플라즈마(이온화된 기체) 생성
3. 양이온(Ar⁺)이 타깃(Target, 예: 구리, 알루미늄 등) 을 때림
4. 때려 맞은 타깃 원자가 튕겨 나와서 기판(Substrate) 위에 증착됨

👉 즉, 타깃을 때려서 재료를 “분사”하는 식으로 막을 입히는 거예요.

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🧭 3️⃣ 주요 구성 요소

구성 요소역할

챔버(Chamber)	고진공 환경 유지, 공정이 이루어지는 공간
타깃(Target)	코팅하고 싶은 재료 (예: Al, Ti, Cu 등)
기판(Substrate)	막을 입히는 대상 (예: 웨이퍼, 유리기판 등)
가스 주입부	Ar 같은 불활성가스를 공급
RF/DC Power	플라즈마를 만들기 위한 전원
펌프(Vacuum Pump)	챔버를 진공 상태로 만듦

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🔋 4️⃣ 스퍼터링 종류

1. DC 스퍼터링 (직류)
   • 금속 타깃용
   • 구조 단순, 효율 높음
2. RF 스퍼터링 (고주파)
   • 절연체(산화물, 질화물 등) 코팅 가능
   • 플라즈마를 안정적으로 유지
3. 마그네트론 스퍼터링
   • 타깃 뒤에 **자석(Magnet)**을 붙여 플라즈마를 타깃 근처에 모음
   • 이온 효율이 좋아서 빠르고 균일한 증착 가능
   • 현재 대부분의 산업 장비가 이 방식

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🎯 5️⃣ 스퍼터의 장점

✅ 균일한 박막 형성
✅ 다양한 재료(금속, 절연체 등) 증착 가능
✅ 우수한 밀착력
✅ 낮은 공정 온도에서도 가능

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⚠️ 6️⃣ 단점

❌ 증착 속도가 느림 (특히 절연막일 때)
❌ 장비 복잡, 진공 유지 필요
❌ 타깃 교체 비용이 높음

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🧩 7️⃣ 간단한 비유

스퍼터링은 마치 모래를 바람총으로 유리 위에 쏴서 얇게 입히는 것과 비슷해요.
단, 그 ‘모래’가 원자 단위로 작고,
그 ‘바람’이 플라즈마 이온인 거죠.